国内有很多企业在研究光刻机，因为光刻机太重要了。二、国内企业国内有很多光刻机制造企业，但制造工艺相对较低。一千个人眼中有一千个哈姆雷特。你最喜欢的中国十大科技公司有哪些？一、国外企业1、荷兰ASMLASML占据80%以上的份额，在最先进的EUV光刻机中，对7nm光刻机市场有100%的垄断，仅此一家。
光刻机是芯片制造的关键，现在中国有哪些企业在研究光刻机？
目前国内研究光刻机的企业不少，因为光刻机实在太重要了。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为 IC 制造中最复杂最关键的工艺步骤， 光刻的核心设备——光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠。目前最先进的是第五代 EUV光刻机，采用极紫外光，可将最小工艺节点推进至 7nm。由荷兰 ASML制造。
国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司先腾光电科技有限公司无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。
但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目超分辨光刻装备研制29日通过验收。
据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。
其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了光刻分辨力达到22纳米，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。更重要的是，目前的紫外线光刻技术，在7nm的芯片出来之后，已经需要一个新的工艺突破。就像当年从液浸式到 EUV的技术飞跃一般。而中科院这个项目，走了另外一条道路。
拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上，这些电子就有序地震荡，产生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。这叫表面等离子体光刻。这条道路的优势是未来的成本可以低于目前主流的技术，极限可能高于未来的主流技术，在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。
除了荷兰，还有哪些国家卖光刻机？
国外荷兰ASML，日本尼康国内上海微电子。一，国外企业1，荷兰ASMLASML占据80%以上的份额，在最先进的EUV光刻机，更是100%垄断7nm纳米以上光刻机市场，独此一家。2，日本尼康Nikon得到Intel大力扶持以平衡ASML，而ASML独步全球的工艺水平和稳定性能最终击败尼康，尼康则开始面向低端领域。
二，国内企业我国也有不少光刻机制造企业，但是制程都相对比较低。1，上海微电子最新光刻机技术达到90纳米，已经成长为我国唯一的光刻机巨头，在中国市场占比超80%，低端市场几乎被其垄断。2021年，上海微电子有望完成28nm光刻机，并完成交付。2，合肥芯硕是国内首家半导体直写光刻设备制造商，自主研发的ATD4000，已经实现最高200nm的量产。
3.无锡苏樱是由中国科学院微电子研究所和业内资深技术团队产业基金共同发起的专业微电子装备高新技术企业，成功研发了半导体领域的激光直写/制版光刻设备，并实现了高达200nm的量产。第三，技术研究。国内的技术研究也在不断取得突破。2018年8月，清华大学研制出双级光刻机，使中国成为世界上第二个研制出双级光刻机的国家。2018年11月，中科院光电所成功研制出光刻分辨率为22 nm的紫外超分辨率掩膜版光刻机。结合二次曝光技术，未来可用于制造10纳米芯片。2019年4月，武汉光电国家研究中心成功研发出9纳米光刻技术，采用远场光学，最小线宽9nm。
